Article : [PAP296]

Titre : E.Y. WU, W.W. ABADEER, H. LIANG-KAI, L. SHIN-HSIEN, G.R. HUECKEL, Challenges for accurate reliability projections in the ultra-thin oxide regime, IRPS 1999.

Cité dans : [CONF024] IRPS, International Reliability Physics Symposium, août 2004.
Cité dans : [DATA184] IRPS'1999, 1999 IEEE International Reliability Physics Symposium, San Diego.
Cité dans :[PAP285]

Stockage : Thierry LEQUEU
Lien : private/WU1.pdf - 800 Ko, 9 pages
Lien : PAP285.HTM#Bibliographie - référence [8].
Source : Reliability Physics Symposium Proceedings, 1999. 37th Annual. 1999 IEEE International
Pages : 57 - 65
Date : 23-25 March 1999
ISBN : 0-7803-5220-3
Info : IEEE Catalog Number: 99CH36296

Info : Total Pages : vii+448
References : 44
Accession_Number : 6396387

Abstract :
In this work, we discuss several important aspects of reliability
projections, especially for ultra-thin oxides in a direct
tunneling regime such as stress methodologies, the determination
of projection parameters, and their dependence on stress
conditions as well as their impact on reliability projection.
Most importantly, we found that the Weibull shape factors and
area dependence are key to understanding of the reliability
limitations for ultra-thin oxides.

Subject_terms :
tunnelling; reliability projection; ultra-thin oxide regime;
ultra-thin oxides; direct tunneling regime; stress methodologies;
projection parameters; stress conditions; reliability; Weibull
shape factors; area dependence; reliability limitations; SiO/sub
2/-Si

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