Fiche : [LIVRE196]
Titre : R.E. JONES, R.W. SCHWARTZ, S.R. SUMMERFELT, MRS 541 - Ferroelectric thin film VII.
Cité dans :[LIVRE110] TREECE R.E., JONES R.E., FOSTER C.M., DESU S.B., YOO I.K., MRS 493 - Ferroelectric thin film VI. Cité dans :[LIVRE166] S.B. DESU, R. RAMESH, B.A. TUTTLE, R.E. JONES, I.K. YOO, MRS 433 - Ferroelectric thin film V. Cité dans :[LIVRE197] H.-J L. GOSSMANN, T. E. HAYNES, M. E. LAW, A. N. LARSEN, S. ODANAKA, MRS 568 - Si Front-End Processing - Physics and Technology of Dopant-Defect Interactions. Cité dans :[LIVRE264] A. AGARWAL, L. PELAZ, H-H. VUAONG, P. PACKAN, M. KASE, MRS 610 - Symposium B - Si Front-End Processing Physics and Technology of Dopant-Defect Interactions II, April 24-28, 2001.Auteur : R.E. JONES
Info. : MRS volume 493
Stockage : Bibliothèque LMP
Info. : LMP99-32a,
Mots_clef : Silicium
Référence : 2000 xx / LMP
Date_d'achat : 15 juin 2000
Prix_H.T. : 1065.19 F
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Mise à jour le lundi 10 avril 2023 à 18 h 52 - E-mail : thierry.lequeu@gmail.com
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